CIP在位清洗系統廠家的詳細資料：

CIP在位清洗系統廠家產品簡介

是藥品生產中衛(wèi)生標準的前提條件之一，它可以消除活性成分交叉污染，消除異物不溶性微粒。降低或消除微生物及熱源對藥品的污染。CGMP要求盡力推薦制藥工業(yè)使用CIP在線清洗系統。我公司產品具有自動化程度高、操作簡便，清洗*、安全性高、價格合理等優(yōu)點。

CIP在位清洗系統廠家主要特點

•  CGMP設計緊湊、安裝、維護和調試簡便；氣動元件及電器元件全部采用進口，性能穩(wěn)定可靠；用功能塊組成的模塊結構，可分手控、自控選擇、觸摸屏提示操作，直觀易懂；

•  清除藥物殘留，防止微生物污染，避免批次之間的影響；

•  符合CGMP要求，實現清洗工序的驗證；

•  能使生產計劃合理化及提高生產能力；

•  按程序安排步驟進行，與手洗作業(yè)比較，能有效的防止操作失誤，提高清洗效率，減少勞動強度，節(jié)省勞動力提高藥品質量；

•  使清洗成本降低、水、清洗劑及蒸汽的耗量少；

•  能增加機器部件的使用年限；

•  安全可靠、設備無須拆卸。

主要構成

主要有單個或多個清洗液貯罐及管道、分布器、增壓泵、回流泵、氣動控制閥、酸堿計量泵、板式換熱器、溫度控制儀、電導率檢測儀、液位控制儀、PLC觸摸屏及控制柜等部件組成。

產品說明

CIP清洗系統是指設備（罐體、管道、泵、過濾器等）及整個生產線在無需人工拆卸或打開的前提下，在一個預定時間內，將一定溫度的清潔液通過密閉的管道對設備內表面進行噴淋循環(huán)而達到清洗的目的，特稱CIP在線清洗系統（Cleaning in place）。一個穩(wěn)定的CIP在線清洗系統在于優(yōu)良的設計，包括設備、管道、操作規(guī)程、清洗劑配方、自動控制和監(jiān)控要求的一整套技術系統等。根據清洗系統的實際情況，確定合適的清洗程序，包括清洗條件確定，清洗劑選擇、回收設計。并對清洗過程中關鍵參數和條件（如時間、溫度、流量、電導率）的記錄、打印，做為設備清洗過程的驗證。